粉體行業在線展覽
AP10
150-200萬元
WAB
AP10
10109
研磨介質分離系統的特點是流量優化和導向研磨介質回路。研磨介質在導流環的軸向引導下通過篩網表面。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質輸送回導流環,而不會將其撕裂。
研磨介質在篩面上的軸向引導有助于將較粗的顆粒從其流經的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統獨特的自清潔效果的基礎。
適用于高產量和高粘度產品
更靈活地選擇工藝參數
提供金屬和陶瓷款式
研磨腔內研磨介質密度分布均勻,可實現最高效率
可使用 ? 0.1 mm 以下的研磨介質進行高效研磨
加速器使研磨珠產生有力的流體運動,從而降低的能耗
整體優化流量控制,實現最佳顆粒停留時間分布
適用于生產所有類型的納米懸浮液
適合通道模式和循環模式
研磨腔可提供專利排氣系統排氣
屏幕壽命長
機器操作簡單且符合人體工程學原理,可實現最快的產品更換
在更換產品時將清潔劑的成本降至最低
通過對研磨腔進行有效冷卻,可研磨對溫度敏感的產品
先進的控制理念使得研磨機非常易于操作
低噪音
多種控制解決方案
大流量和高粘度產品的理想之選
創新型 DYNO?-MILL ECM-AP 系列旨在提高產量。
研磨效率高,可研磨到納米級范圍。具有自清潔效果的**分離系統,提高了對高粘性產品的可駕駛性。可以避免因篩網堵塞清洗而導致生產的中斷。針對高粘性產品,這是一個非常大的優勢。
研磨介質分離系統的特點是流量優化和導向研磨介質回路。研磨介質在導流環的軸向引導下通過篩網表面。然后,DYNO?-ACCELERATOR DSE 將研磨介質輸送回導流環,而不會將其撕裂。
研磨介質在篩面上的軸向引導有助于將較粗的顆粒從其流經的橫截面上清除,這也是 DYNO?-MILL ECM-AP 分離系統獨特的自清潔效果的基礎。
缸體凈容積為9升,采用WAB高效渦輪加速器,比傳統盤片式機型效率提升6~8倍
渦輪加速器能確保研磨珠高能量均勻運動,從而保證了高效一致的能量輸入,能滿足黏度從低到高各種產品的研磨需求
較小的研磨容積和理想的冷卻效果確保了對溫度敏感產品的順利研磨
不用打開缸體就能更換篩網,便于維護保養
材質和設計實現了更為方便的清洗,節省了清洗時間和成本,很好地適應客戶在多種產品之間的快速轉換
缸體和渦輪盤有不銹鋼,硬化不銹鋼,碳化硅,硬鉻合金,氧化鋯等材質選擇,確保了更長的使用壽命
AP系列還有0.5升,1.9升,21升,62升等缸體容積可供客戶選擇
DYNO?-MILL RL
T2GE
UBM 20
UNI LAB
WAB IMPA°CT REACTOR?化學反應器
AP10
ECM-AP 05
ECO5
DYNO?-MILL KD系列
DYNO?-MILL NPM Pilot
DYNO?-MILL MULTI LAB
dyna-MIX? CM 1000