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派勒臥式砂磨機/砂磨機分散盤

Pühler 全新型徑向研磨機是在全球知名的研磨系統(tǒng)上做了進一步的研發(fā); 并取得**局批準，全封閉式，短/粗型的研磨腔設計元素，3:9之黃金分割比例的長度/直徑/線速度系數比更佳，高能密度能量輸入，并將其**合理組合，為您提供更經濟的濕法研磨技術； 

新型徑向研磨機對于研磨大批量物料來說是*為經濟的選擇，相對于其它研磨設備，設備的投入與磨介的選擇成本都低。另外，該機型的優(yōu)點是可以得到比其他機型更細更窄的粒度分布，能夠連續(xù)處理大量的漿料，還可在研磨過程中隨時向預混缸內加入物料組份，并且因為漿料經過研磨室的時間只有短短的15-25秒，所以可以得到精確的溫度控制。  
?   通過采用高效分離系統(tǒng)使得即使在非常高的流量下仍能保證研磨珠的安全分離，極大尺寸的筒式離心分離器篩網使得流動阻力（即壓降）*小； 
?    對于化妝品，制藥，食品和生化工程行業(yè)，派勒PUHLER能夠提供完全用不銹鋼制造的磨機和一些特殊的裝置滿足客戶的特殊需要。以下是一些介紹如何滿足個別客戶的特殊需求的例子： 
?    機架采用不銹鋼，并用顆粒度160打磨處理 
?    機械密封液使用溶劑配置 
?    清洗液容器以及冷卻盤旋管及管接頭都采用不銹鋼 
?    與產品接觸的磨損部件材料是氧化鋯 
?    渦輪采用氧化鋯材質 
?    產品進口和出口采用快速加緊裝置連接 
?    冷卻回路能夠適應從-15°C至 110°C的冷卻/加熱介質 
?    探針式溫度表和壓力表 
?    水冷式的主電機

派勒全新型徑向研磨機：主要應用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散：
1) Color paste / Color filter / TFT LCD  ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到納米級，透明度需超過90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：顏料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到納米級，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半導體晶片研磨所需之研磨液粒徑已達

派勒新型徑向研磨機為料漿流動方向與轉子離心方向一致的新型研磨機。用球只有0.05~0.8mm小球作研磨介質的臥式高效研磨機，將物料短時間內研磨至300~600納米，粒度分布狹窄而集中，屬全球**！**。