粉體行業在線展覽
高比表面積氫氧化鈣設備
100-150萬元
高比表面積氫氧化鈣設備
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高比表氫氧化鈣是指具有較大比表面積(通常大于40 m2/g)的氫氧化鈣顆粒。比表面積是指單位質量物質的總表面積,是衡量材料吸附性能的重要指標。高比表氫氧化鈣由于其較大的比表面積,具有以下優勢:
1、吸附能力強:高比表氫氧化鈣能夠有效吸附空氣和水中的污染物,如重金屬離子、酸性氣體和有機物。
2、反應活性高:較大的比表面積提供了更多的反應活性位點,使得高比表氫氧化鈣在化學反應中表現出更高的活性。
3、分散性好:高比表氫氧化鈣顆粒細小,易于在液體中分散,適用于制備高分散性漿料。
GKLM1100
GK1720A
GK1720
高比表面積氫氧化鈣設備
方解石雷蒙磨
4R3220/GK1280/5R4128
GK1620/1700/1850
GKSH新型石灰消化器
GK系列雷蒙磨
GK系列雷蒙磨粉機
GK1920/2150/2500
GK1280/5R4128/GK1500