粉體行業在線展覽
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上海超威納米科技有限公司
上海
面議
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2327
二硅化鉿主要用于制造濺射靶材，雷達航空航天、電子工業、儀表儀器、醫療器械等
技術參數
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產品歸類 |
型號 |
平均粒徑（um） |
純度 |
比表面積 （m2/g） |
體積密度（g/cm3） |
晶型 |
顏色 |
|
微納級 |
CW-HfSi2-001 |
<1.0 |
99.5 |
12.47 |
5.12 |
立方 |
黑色 |
|
超細級 |
CW-HfSi2-002 |
1-3um |
99.5 |
10.25 |
5.36 |
立方 |
黑色 |
| 微米級 | CW-HfSi2-005 | 325目 | 99.5 | 3.16 | 6.79 | 立方 | 灰黑色 |
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加工定制 |
根據客戶需求適當調整產品純度及粒度 |
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主要特點
微納米二硅化鉿粉、微米二硅化鉿粉通過可變電流激光離子束氣相法制備，純度高，粒徑小，分布均勻，比表面積大，表面活性高，耐高溫，抗氧化，硬度高，是一種工程材料，在各個領域有著應用。高熔點(1680℃)、高硬度、高穩定性以及良好的導電性、導熱性、抗氧化性。
應用領域
二硅化鉿主要用于制造濺射靶材，雷達航空航天、電子工業、儀表儀器、醫療器械等
技術支持
可以提供微納米硅化鉿粉在耐磨涂層、航空航天、復合材料中的應用技術支持，具體應用咨詢請與銷售部人員聯系。
包裝儲存
本品為抽真空包裝，應密封保存于干燥、陰涼的環境中，不宜長久暴露于空氣中，防受潮發生團聚，影響分散性能和使用效果
