粉體行業在線展覽
JH-404-P4S
面議
JH-404-P4S
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0.8um
當99.999%**純度遇上亞微米級精準控制,我們重新定義氧化釔的性能極限——為您的尖端科技注入原子級純凈力量!
(所有數據優于行業**標準)
性能維度 | 關鍵指標 | 實測數據 | 行業意義 |
---|---|---|---|
純度革命 | TREO(總稀土氧化物) | >98.5% | 稀土利用效率突破天花板 |
Y?O?/REO純度 | ≥99.999% | ?? 全球頂尖“五個9”級別 | |
雜質封控 | 稀土雜質總量(La-Lu) | <0.0003% | ?? 13項雜質均低于0.0001% |
? 典型值:La?O? | 0.00003% | (相當于0.3ppm痕量級) | |
? 峰值:Dy?O? | 0.00005% | ||
非稀土雜質 | ?? 顛覆性潔凈度 | ||
? Fe?O?(磁性污染源) | 0.0005% | ?? 比醫用級標準低20倍 | |
? SiO?(熔融缺陷源) | 0.0001% | ?? 單晶生長零干擾保障 | |
物理掌控 | 中心粒徑 D50 | 0.72μm | ?? 激光級粒度一致性 |
灼減(1000℃失重) | 1.6% | ?? 高溫穩定性超群 |
█ 純度即性能
稀土雜質低于常規產品兩個數量級(0.0001% vs 0.01%),消除熒光淬滅/磁損耗隱患
█ 潔凈即可靠
Fe?O? ≤5ppm + SiO? ≤1ppm,滿足半導體級潔凈要求,杜絕晶體缺陷
█ 精度即效率
0.72μm窄分布粒徑,為涂層/燒結提供原子級均質化基底,良率提升30%+
激光晶體
? 消除Nd:YAG中Ce3?/Fe3?淬滅源,轉換效率突破92%
超導薄膜
? YBCO涂層靶材純度保障,臨界電流密度提升45%
高端熒光粉
? 0.00001%Eu?O?管控,實現BT.2020廣色域顯示
核用陶瓷
? 超低Cl?(0.006%),耐中子輻照壽命延長3倍
JH-γ相
JH-404-P4S
JH-339-D30n-B50
JH-348-D30n-B3
JH-327-D2
JH-341-D300n-B20-R
JH-101-AL
JH-339
JH-348-D400n-B9
JH-348-D30n-B40
JH-101-偏釩酸銨
JH-301