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DVS Vacuum 真空吸附儀                                                                                           

多孔材料的吸附是非常重要的研究領域，傳統的天平稱重法基于靜態技術。該方法基本與向真空倉吹氣增壓，使得材料吸附

現在采用我們的新技術，不僅可以吸附氣體，也可以吸附蒸汽。從而研究材料的精確吸附特性

技術特點

（1）Henry 區域（低吸附濃度）試驗 
         可傳送吸附物質的壓力低至0.1mbar （更低壓力亦可實現，可通過咨詢 SMS 得知）。使用氣體和蒸汽 

  （2）典型的氣體和蒸氣包括： 
         二氧化碳    ? 二氧化硫  ? 氫 ? 氬   ? 甲苯   ? 氮 
         甲烷  ? 水  ? 環己烷   ? 辛   ? 乙醇

（3）應用
    

   沸石和MOFs材料吸附水蒸氣時，吸附熱的存儲和轉化

                Micro-和meso-porous材料，例如zeolites 4A, A10 Sylosiv, MCM-41，aluminophosphates，13X,包括

    SAPO-34, and MOFs等，因其吸附時產生的熱效應引起了研究者的興趣，隨之而來的新型的加熱與制

     冷技術的變革。在局部低壓力范圍，無論高還是低的吸附量，其中水都可以被認為是起冷卻作用的

    吸附物。因此，在水蒸氣存在的情況下，這些材料的吸附行為被廣泛研究，以便了解在低分壓下，材

    料對水蒸氣的吸附動力學；總的吸附能力；在寬的溫度范圍經幾個吸附/脫附循環再生后，材料的穩

    定性。 此外，各種探針分子的選擇以及它們的混合物（水 - 醇）得到的物理 - 化學參數對于理解在

    極端條件下的材料性能非常關鍵。等壓線和等溫線，包括樣品的吸附動力學實例如下所示。

         40℃，A10的水分吸附/脫附圖。在測量吸附量之前，A10在180℃，10-5Torr的條件下，脫附480min，

     然后突然冷卻至吸附溫度40℃。樣品在同樣的吸脫附條件下循環再生，A10的水蒸氣吸附-脫附等溫線

     如右圖所示。

       左圖：在7.14Torr，A10的水蒸氣吸附等壓線。A10的兩個循環表明了在降溫（吸附）或升溫（脫附）

     期間（藍色）質量的變化（紅色）。

             右圖：在7.14Torr，A10的水蒸氣吸附等壓線。

     催化劑和沸石的分子分離

       作為探針分子，包括水蒸汽，有機氣體  (例如： toluene, benzene, cyclohexane, xylene, acetaldehyde，alcohols等)，

     氣體等都是通過復雜的多支流管控制。選擇適用于特性吸附的探針分子，能提供更多物理化學參數，例如BET，△H。

    左圖：在25，55℃時，Pt-SiO 2的甲苯脫附-吸附等溫線比較。

    右圖：在25℃時，使用BET方程測定用甲苯做吸附劑時的比表面積。

                   比表面積: 737m2/g，單層容量: 0.012 mol/g

       MOFs材料和沸石作為吸附質對CO2捕捉和儲存

             MOFs材料和沸石作為多孔晶體材料能夠有效的捕獲CO2。由于它們較強的吸附能力，

     和易于合成的經濟適用性，這兩種材料都是強有力的捕獲CO2候選。

         左圖：在25℃時，壓力從0-760Torr，13X對CO2的吸附-脫附。13X以直徑1-2mm的珠粒形式存在。

         右圖：在25℃時，壓力從0-760Torr，Mg-MOF-74對CO2的吸附-脫附。

      在25℃，50/50 CO 2 /H 2 O  Mg-MOF-74 的競爭吸附。

      左圖：吸附動力學曲線

      右圖：吸附等溫線，吸附（紅色），脫附（藍色）

   干燥動力學和樣品的原位脫附

                DVS Vacuum能測定樣品的干燥動力學，并且能在進行吸附前使樣品的質量達穩定。高溫400℃

          和高真空10-7Torr下樣品的原位脫附。一旦樣品冷卻到試驗溫度，緊接著可以在理想吸附溫度下進

     行吸附試驗。樣品轉移不需要脫氣。

       左圖：13X沸石的干燥曲線，在400℃和高真空下脫附。

    右圖：溫度和真空度對卡馬西平二水化物脫水的影響。

（4）高溫樣品預熱器（可選）

     在高真空下樣品預熱可高達400°C

        預加熱器的溫度可達400度，能夠滿足樣品

       原位的脫附/再生所需的溫度。樣品的溫度由

       放置在金屬盤下的Pt-100熱電偶測量。

（5）高真空 

     背景真空10^-6Torr

技術參數