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Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

產品詳情

      鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院，35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗，數十項ICP檢測標準的起草單位，ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位，重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位，*懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！歡迎來電洽談。聯系電話：400-62******

儀器介紹

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器介紹

應用領域

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于稀土及磁性材料、鎢鉬、鈮鉭、地質、冶金、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。

售后服務保障

售后服務工程師出自生產線、技術力量無可比擬

多年的國際合作經驗打造了完善的售后服務體系

自主知識產權產品使儀器的運行成本大幅降低

技術參數

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(33±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵 

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm           

6.   高頻發生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩定度：0.1%（長期25℃典型值） 

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣 配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫氟酸霧室）

9.   霧化器：同心霧化器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

儀器特點

Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點：

1.   分析流程全自動化控制，實現軟件點火、氣路智能控制功能；

2.   輸出功率自動匹配調諧，功率參數程序設定；      

3.   優良的光學系統，先進的控制系統，保證峰位定位準確，信背比優良；

4.   極小的基體效應；      

5.   測量范圍寬，超微量到常量的分析，動態線性范圍5—6個數量級；

6.   檢出限低，大多數元素的檢出限可達ppb級；

7.   良好的測量精度，穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%（5ppm），優于國家A級標準（JJG768-2005）；

8.   Rf輸出功率的范圍750-1500W，輸出功率穩定性小于0.1%；

9.   光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調，可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件，和全譜儀器比較有更好的檢出限；

10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全；

11. 高精度的光室恒溫系統，保證儀器優良的長短期精度；

12. 多通道蠕動泵進樣，保證儀器進樣均勻，工作穩定；

13. 使用特殊處理的屏蔽玻璃，在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m（JJG768-2005規定小于10V/m）。

14. 具有較高的譜線分辨率，能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線，能分出鐵的四重峰。

15. 人性化的軟件設計，操作方便，終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中，進行數據處理，方法編制和結果分析，是真正的多任務工作軟件；該軟件數據處理功能強大，提供了多種方法，如內標校正、IECS和QC監測功能等，可獲得**的背景扣除點以消除干擾；對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。