粉體行業在線展覽
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▼概要美國國家標準技術研究所（National Institute of Standards and Technology）NIST發表了CaF2等的氟化物雙折射對于實現光刻的高解像度是很大的障礙。現在雖然確立了補償方法，克服這種問題，但是為驗證這個方法是否可行，需要用到在真空紫外波長區域具有高靈敏度的雙折射計。本裝置是日本分光多年來積累的偏光測定技術在真空紫外領域的擴展，高靈敏度雙折射測量的解決方案。根據偏光變調法，在真空紫外波長區域進行氟化物等的雙折射測量。為排除氧以及水的吸收所有的光路都進行氮氣吹掃。
◆規格
▼BRV-100
BRV-100 | |
波長范圍 | 140nm～320nm |
光刻靈敏度 | 0.05nm（157nm） |
穩定性 | 1count／h（157nm） |
檢測下限 | 0.17 nm（157nm） |
LUMiFlector
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Zetium
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