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儀器簡介

美國CETAC的激光剝蝕/激光燒蝕產品線源于全球行業翹楚之一的Photon Machines團隊（縮寫PMI），其**代產品于1995年問世，該品牌具有豐富的激光剝蝕產品設計、研發、制造及應用經驗，產品線涉及213nm固態激光、193nm準分子激光、飛秒激光系統（與ICP-MS聯用），及CO₂和二極管激光熔融系統（與惰性氣體同位素質譜聯用），此外多種高性能配件與更加直觀的分析軟件能夠增強并完善系統的功能，足以為全球元素分析用戶提供先進的激光剝蝕技術。

Analyte HE 準分子激光剝蝕系統采用精細化控制單元，高能量的“平頂 (homogenized-flat)”激光和飛速響應的“邊對邊 (shot-to-shot)”技術帶來高分辨率空間分析能力。創新的“動態剝蝕功能 (fire-on-the-fly)”采用高分辨率XY移動平臺技術，同時移動平臺能夠實時觸發激光的發射，**應用于線掃描的深度剝蝕和元素分布圖的分析。另外，高分辨率GigE真彩顯微攝像觀察技術，觀察單元光學分辨率小于2μm，提供透射、反射和環形可調亮度的照明和十字交叉偏振系統，能夠實時顯示實時縮放的動態寬視野場，實現快速樣品定位導航。結合足夠高的剝蝕能量(50J/cm²)，Analyte HE能夠輕松剝蝕各類樣品甚至是具有挑戰性的物質，包括高純石英、彈性碳酸鹽等樣品，同時光束能量均勻化分布，以確保在整個光斑尺寸范圍內和各種材料上均勻剝蝕。

應用范圍

樣品種類

石英/螢石；方解石/文石/鋯石；透明和半透明類樣品；骨頭/化石；陶瓷；塑料；超薄涂層/鍍層；各種礦物等。

主要性能參數

■ 超短193nm激光波長

■ 脈沖寬度＜20ns

■ 足夠剝蝕石英及螢石的能量密度，高達50J/cm²

■ 密閉氣室

■ 激光束能量分布均勻化，剝蝕均勻

■ 標配100x100mm移動平臺，可選150x150mm平臺

■ 同步“動態剝蝕功能”實現精確的剝蝕深度控制

■ 獨立的視頻和激光光學控制單元，能夠更好的查看樣品剝蝕點

■ 剝蝕光斑范圍1-170μm

■ 標配30個剝蝕光斑，光斑可定制

■ 標配HelEx II雙體積雙氣路渦流樣品池