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聚焦離子束掃描電鏡 GAIA3 XMU/XMH

GAIA3 XMU/XMH

直接聯(lián)系

泰州巨納新能源有限公司

捷克

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

型號(hào):

GAIA3 XMU/XMH

關(guān)注度:

2843

產(chǎn)品介紹

GAIA3 是一款完全由計(jì)算機(jī)控制的鎵離子源聚焦離子束 - 超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡,可選配氣體注射系統(tǒng),可在高真空和低真空模式下操作,其具有突出的電子光學(xué)性能,清晰的數(shù)字化圖像,成熟、用戶界面友好的操作軟件等特點(diǎn)。基于Windows平臺(tái)的操作軟件提供了簡(jiǎn)單的電鏡操作和圖像采集,可以保存標(biāo)準(zhǔn)文件格式的圖片,可以對(duì)圖像進(jìn)行管理、處理和測(cè)量,實(shí)現(xiàn)了電鏡的自動(dòng)設(shè)置和其它許多自動(dòng)操作。

 

*重要的特性:

u  具有超高分辨率的單極60度角物鏡;

u  無磁場(chǎng)模式用于磁性樣品的觀察;

u  高亮度肖特基電子槍可得到高分辨率/高束流/低噪聲的圖像;

u  鏡筒中的In-Beam二次電子探測(cè)器用于小工作距離條件下二次電子的檢測(cè);

u  獨(dú)有的三透鏡大視野光學(xué)Wide Field OpticsTM設(shè)計(jì),提供了多種工作模式和顯示模式,體現(xiàn)了TESCAN專有的中間透鏡IML的功能;

u  實(shí)時(shí)電子束追蹤(In-Flight Beam Tracing?)技術(shù),模擬和實(shí)現(xiàn)電子束優(yōu)化,可直接連續(xù)控制束斑和束流大小;

u  電子束減速模式下低電壓可獲取優(yōu)秀的分辨率(選配)

u  In-Beam背散射電子探測(cè)器用于小工作距離的背散射電子成像;

u  利于EDXEBSD分析的理想幾何設(shè)計(jì);

u  由于使用了強(qiáng)力的渦淪分子泵和機(jī)械泵,因而可以快速簡(jiǎn)單得到干凈的真空樣品室;電子槍的真空度由離子泵來維持;

u  包括電子光學(xué)設(shè)置和校準(zhǔn)的全自動(dòng)顯微鏡設(shè)置;

u  完善的軟件用于SEM控制,圖像采集、存檔、處理和分析;多用戶多語言操作界面;

u  網(wǎng)絡(luò)操作和內(nèi)置的遠(yuǎn)程控制/診斷是TESCAN的標(biāo)準(zhǔn)配置;

u  獨(dú)特的3維電子束技術(shù)用于獲得實(shí)時(shí)立體圖像;

u  擴(kuò)展的低真空模式使樣品室真空可達(dá)500 Pa,用于非導(dǎo)電試樣的觀察;

u  Cobra鏡筒在高束流下具有超高的分辨率和優(yōu)良的性能;

u  獨(dú)特的離子光學(xué)差異泵(兩個(gè)離子泵)可降低離子散射效應(yīng);

u  配有高重復(fù)性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)光闌轉(zhuǎn)換器的聚焦離子束鏡筒;

u  標(biāo)配電子束遮沒裝置和法拉第杯的離子束鏡筒;

u  自動(dòng)FIB切割、信號(hào)采集以及3維重構(gòu)技術(shù)(斷層掃描),實(shí)現(xiàn)3D EBSD3D EBIC等集成可視化3 (選配)

u  FIB銑削或沉積時(shí)SEM同時(shí)成像(兩個(gè)獨(dú)立的掃描發(fā)生器);

u  刻蝕或沉積過程中FIB局部成像;

u  強(qiáng)大的電子束寫入工具,包含大量基本的和高級(jí)的、可進(jìn)行各種工藝參數(shù)編輯的對(duì)象;

u  成熟的SEM/FIB/GIS操作軟件用于圖片的獲取、存檔、處理和分析;多用戶多語言的操作界面。


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聚焦離子束掃描電鏡 GAIA3 XMU/XMH

GAIA3 XMU/XMH

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