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PHI 06-C60型離子槍

簡介

PHI06-C₆₀型離子槍設計獨特，適用于多種有機物和聚合物材料表面低損傷的清潔和濺射深度剖析。該離子槍產生C₆₀離子束，經(jīng)過韋恩過濾器過濾。一旦C₆₀離子束轟擊到樣品表面，其初始動能就會分配到60個碳原子上。導致樣品表面能量級聯(lián)形成高效率濺射過程且對樣品化學成分造成的破壞*小。而Ar離子束濺射對有機物和聚合物造成化學破壞比較嚴重，06-C₆₀型離子槍在當前的儀器設計中，包括Quantera SXM和VersaProbe，作為一種配置選項，該離子槍也可經(jīng)過改裝用于多種Ulvac-Phi Quantera和PHI 5000系列的XPS儀器。另外，該離子槍的控制器和掃描控制單元均由計算機控制。

圖1 - PHI 06-C₆₀ 10kV - C₆₀型離子槍

應用優(yōu)勢

兩片被硅氧烷污染的PET 薄膜，分別用500 V Ar 離子束和10 kV C₆₀離子束濺射。用 Ar 離子束濺射1 nm后，PET的C 1s譜圖中看到明顯化學破壞；用Ar離子束濺射20 nm后，PET的C 1s譜圖中看到劇烈化學破壞。而與之對應C₆₀離子束濺射20 nm后，PET的C 1s譜圖中看到化學成分幾乎與未濺射表面沒有區(qū)別。

圖2 - PET 表面的C 1s高分辨譜隨濺射深度變化的關系 (a) 500 V Ar 離子束 (b) 10 kV C₆₀離子束。C 1s 譜表明經(jīng)500V Ar 清潔后出現(xiàn)嚴重的化學成分破壞