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真空鍍膜設備（CVD/PVD）

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真空鍍膜設備（CVD/PVD）主要用于薄膜沉積工藝，是一連串涉及原子的吸附，吸附原子在表面的擴散及在適當的位置下聚結，在晶圓上沉積一層待處理的薄膜的過程。

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真空鍍膜設備（CVD/PVD）

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