粉體行業在線展覽
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立式退火爐
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湖南新天力科技有限公司
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湖南新天力
立式退火爐
2829
該設備主要用于半導體硅晶片的退火、具有控溫精度高、溫度場均衡、升降溫速率快、可靠性高等特點，是制作半導體硅晶片材料的必備工藝設備
立式退火爐
1、**設計溫度：1800℃
2、常用溫度：1700℃
3、供電電源：AC380V±10％,3相4線, 50Hz
4、加熱元件：硅鉬棒
5、適用燒結氣氛：氮氣、一氧化碳、氬氣
