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CVD 化學(xué)氣相沉積回轉(zhuǎn)爐 動態(tài)旋轉(zhuǎn)式沉積設(shè)計(jì)

GZ-CVD

直接聯(lián)系

陜西罡正窯爐科技有限公司1

咸陽

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價：

10-20萬元

型號：

GZ-CVD

關(guān)注度：

6

產(chǎn)品介紹

CVD (化學(xué)氣相沉積)回轉(zhuǎn)爐是一種用于材料表面改性和薄膜沉積的高端設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、新能源、陶瓷、粉末冶金等領(lǐng)域。通過化學(xué)氣相沉積技術(shù)，可在材料表面形成均勻、致密的薄膜，提升材料的性能。



產(chǎn)品咨詢

CVD 化學(xué)氣相沉積回轉(zhuǎn)爐 動態(tài)旋轉(zhuǎn)式沉積設(shè)計(jì)

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CVD 化學(xué)氣相沉積回轉(zhuǎn)爐 動態(tài)旋轉(zhuǎn)式沉積設(shè)計(jì) - 6
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