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真空提純爐可用于碳納米管料的連續(xù)式高溫石墨化提純，并可實現高溫法與化學法相結合的提純處理。適用于新能源汽車、半導體、新材料等等多種領域。

真空提純爐的用途：

      適用于電池負極材料、電子陶瓷、玻璃、晶體、粉末冶金、納米材料、金屬零件、電子元器件、石墨烯、新型材料及粉體材料的真空氣氛處理，材料在惰性氣氛環(huán)境下進行燒結。

真空提純爐的特點：

　　可用于石墨粉料的連續(xù)式高溫石墨化提純，并可實現高溫法與化學法相結合的提純處理。

　　可實現高溫下連續(xù)式進料和出料，減少了能源消耗，縮短生產周期；

　　采用電阻或感應加熱，溫度可達2850℃以上；

　　采用高溫法和化學法相結合的提純方式，可滿足高純度處理要求；

　　采用高效的過濾系統(tǒng)，能有效捕集提純過程中產生的粉塵、腐蝕性氣體等；

       可實現高溫下連續(xù)式進料和出料，減少了能源消耗，縮短生產周期。

真空提純爐的技術參數：