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LK3200A電化學工作站

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天津市蘭力科化學電子高技術有限公司

天津

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產品介紹

儀器簡介:

LK3200A型電化學工作站是在LK2000系列優點的基礎上將電流范圍擴大到2A,應用于電化學科研與教學、電池材料研制、電池充放、電催化、電沉積、腐蝕及防護研究、導電聚合物及導電膜研究、環境分析等領域的研究及阻抗測試。

技術參數:

電勢控制范圍:-10~+10V 

恒電流范圍:-2A~2A 

槽壓:-35V~+35V

電流檢測下限:≤10pA  

電位增量:0.01 mV~50V

脈沖寬度:0.0001~10Sec  

方波頻率:0.001~100KHz   

交流頻率:1~10KHz  

二次諧波交流頻率:1~1KHz     

采樣間隔:0.0001~60000Sec  

平衡時間:0~60000Sec    

濾波參數:50Hz~1000KHz 

電勢信號掃描范圍:10.0V  

掃描速度:0.01mV/S~5000V/S

脈沖間隔:0.0001~60000Sec

脈沖振幅:0.001~0.5V     

方波幅度:0.001~0.5V  

交流幅度:0.001~0.4V     

電解時間:1~60000Sec     

電沉積時間:0~60000Sec    

低噪聲程控放大1~64倍  

正弦波頻率:0.01mHz~100KHz

電流測量范圍:±10mA~±1nA (8個量程檔位)      

電流電位自動或手動濾波,自動或手動IR降補償,自動電位或手動電流調零

主機自帶硬件交流阻抗體系,附帶交流阻抗軟件,及數據處理軟件件,可進行測量及數據曲

線的模擬該體系提供多個阻抗測量方法。

接口通訊方式:串行通訊

恒電位技術:單電位階躍計時電流法、雙電位階躍計時電流法、計時電量法、電流—時間曲線、開路電位--時間曲線、控制電位電解庫侖法、電位溶出E-T曲線、微分電位溶出分析法。

線性掃描技術:循環伏安法及無限次循環伏安、塔菲爾曲線、線性掃描溶出伏安法。

脈沖技術:差分脈沖溶出伏安法。

方波技術:循環方波伏安法、方波溶出伏安法。

交流技術:交流伏安法、選相交流伏安法、二次諧波交流伏安法、交流溶出伏安法

恒電流技術:單電流階躍計時電位法、雙電流階躍計時電位法、線性電流計時電位法。

電化學檢測方法:電位分析-工作曲線法、電位分析-標準加入法、恒電位安培檢測、方波電位安培檢測。

交流阻抗測量技術:交流-阻抗法、阻抗-電位法、阻抗-時間法。

電池充放電測試

主要特點:

32位Windows中文界面

測試系統軟件采用32位Windows風格的軟件界面,操作簡單直觀。實時觀察窗口、圖形數據一體化窗口的運用,使得測試過程直觀高效。軟件在運行中,對用戶的操作及數據的有效性、完整性進行了充分地檢查,適時給出提示或警告。

數據實時顯示

LK3200A具有數據列表功能,能夠實時顯示阻抗的測量結果和打開文件的數據,確保你方便地查看實驗結果。

強大的數據及圖形處理

LK3200A交流阻抗測量系統上位機軟件可直接處理80000個數據點,并能以十余種圖形方式顯示測量結果(如阻抗復平面圖/Nyquist、Bode圖、Warburg阻抗圖),觀察實驗結果十分方便。

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LK3200A電化學工作站

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