粉體行業在線展覽
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上海載德半導體技術有限公司
德國
面議
1651
光譜型橢偏儀 (spectroscopic ellipsometer)
原產國：德國
儀器特點：
? 可直接得到光學參數、n值（折射率）、k值（吸收率）及厚度，并可作在線即時測量；
? 可作各光學參數的整理歸檔，并以各種不同模式輸出；
? 非接觸式測量，不刮傷損壞測試樣品；
? 體積小巧：由高性能的微型光纖光譜儀構成分光逐漸，體積小巧；
? 使用簡單方便：由計算機控制測量，只需按一個按鍵，即可完成薄膜特性檢測。
特性參數：
規格型號 | SpecEI-2000光譜型橢偏儀 |
厚度范圍 | 1nm～10um |
厚度分辨率 | 0.1nm (1埃) |
重現性： | 70nm SiO2 on Si cos(Delta) ±0.0003， tan(Psi) ±0.0002 |
光斑大小 | 300×1200 um（小尺寸光斑可選配） |
光學參數 | 可得出：n（折射率）、k（吸收率）值 |
折射率精度 | 0.005 |
光譜范圍 | 400～1000nm （可選290～1050nm） |
光譜分辨率 | 1 nm |
入射角度 | 70°（其他角度可選配） |
薄膜層數 | > 3層 |
參考測量 | 不需要參考，直接測量 |
膜層材料 | 波片、光學材料等 |
透明膜 | 可以測透明膜 |
測量速度 | 7～13秒 |
樣品定位**允許誤差 | 高度允許誤差±3mm；光入射角允許±1° 不需進行高度和傾斜角調整 |
顯微鏡 | 可與顯微鏡匹配使用 |
可視 | 可顯微觀察，與顯微鏡匹配使用 |
掃描測量 | 可以掃描測量，掃描直徑6英寸或12英寸 |
真空應用 | 由用戶自行選購后，可以在真空環境中使用 |
SpecEL-V1.1 | 操作界面友好，使用簡單的測量軟件。 測量膜厚、n值、k值、膜層結構編輯功能 |
可用于：在線過程監控或離線產品檢測
橢偏儀原理：
橢圓偏光法是基于測量偏振光經過樣品反射后振幅和相位的改變研究材料的性質。光譜型橢偏儀在全部光譜范圍內(而不是特定的波長)測量Psi和Delta，通過構建物理模型對數據進行擬合分析，*終得到膜厚、折光系數、吸收、粗糙度、組成比率等結果。
