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煙氣中NH3分析系統ENDA-C2000

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產品介紹

應用領域

可以對氨干式脫硝裝置排放出來的尾氣中的殘留NH3濃度進行連續檢測。采用了無漂移新型化學發光法分析儀(CLA),檢測器實現了高度化。并且,由于使用了半導體傳感器,所以工作奉命長。分析部和操作部的功能集中統一,采用了在前面進行操作方式,并且完善了自我診斷功能等,力求使用便利。可監測脫硝催化劑的劣下、限制NH3的注入量、防止硫酸銨結晶物的生成等,在設備的監測、控制方面可以發揮出威力。

功能特點

搭載有無漂移新型化學發光法分析儀(CLA)。

實現了NH3、NOx*小量程0〜10ppm。

采用了利用氧氣常磁性的劃時代磁壓方式的氧氣分析儀。實現了優異的耐久性、高精度、高速響應。

具有從低濃度到高濃度的大范圍量程。

采用了大幅提高了操作性的前面操作方式。

具有可通過微機對檢測狀態進行監測、控制、運算處理、存儲等功能,容易使用,更加方便進行維護。

完善的自我診斷功能。

還可以完全滿足設置條件多樣化的需求。

技術參數

NH3

(標準量程)20〜100ppm

可選項量程)10ppm〜20ppm以下

(量程比)10倍以內

NOx:

(標準量程)20〜100ppm

(可選項量程)10ppm〜20ppm以下

(量程比)10倍以內

O2

(標準量程)5〜25vol%

(量程比)5倍以內

(量程數各成分**3量程)

再現性:±0.5FS%、如果包括可選項量程時,±1.0FS%(周圍溫度、-5〜40℃的情形)

響應速度:裝置入口:T90、90秒以下校正氣體入口:T90、70秒以下

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