粉體行業在線展覽
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北京飛斯科科技有限公司
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Janis SHI-4系列4K制冷機種類齊全，可配置各種光學附件和電學接頭，滿足不同實驗對樣品冷卻的要求。真空罩底部有螺紋孔，匹配安裝法蘭，可方便地將恒溫器固定在任意方向。標準配置的制冷機系統高溫可到325K，可選配高溫到500K或800K。
標準型號("X"表示制冷機的制冷功率)：
¨ SHI-4-X (光學)
¨SHI-4T-X (非光學)
¨SHI-4S-X (超級緊湊)
¨SHI-4XG-X (低振動)
¨SHI-4H-X (高溫)
標準配置 | 可選配置 |
●光學型真空罩和防熱輻射屏 | ●BNC、SMA或多針電學接頭 |
●4個O-ring密封石英窗 | ● 增加第五個窗口 |
● 鍍金無氧銅OFHC樣品托 | ● 旋轉真空罩 |
● 抽真空閥和安全閥 | ● 旋轉臺和定位臺 |
● 10針電學真空接頭 | ● 基質隔離結構 |
● 三個備用電學引入端口 | ● 防熱輻射窗 |
● 硅二極管溫度計和加熱器 | ●紅外或其他窗材 |
● O-ring密封的真空外罩，方便裝卸 | ● 緊湊型或其他定制型真空罩 |
● 非光學型結構 | |
● 選配500K或800K高溫 |
SHI-4-X制冷機技術參數（含輻射熱負載）：
技術參數 | SHI-4-2 | SHI-4-5 | SHI-4 | SHI-4-15 |
溫度范圍 | <4.2K to 325K | <4.5K to 325K | <4K to 325K | <4K to 325K |
初始降溫時間 | 120mins to 5K | 90mins 到4.5K | 60mins 到4K | 60mins 到4K |
冷頭制冷功率 | 0.2W @ 4.2K | 0.5 W @ 4.2K | 1 W @ 4.2K | 1.5 W @ 4.2K |
恒溫器質量 | 36lbs. | 53lbs. | 62lbs. | 63lbs. |
壓縮機冷卻方式 | 風冷或水冷 | 水冷 | 風冷或水冷 | 風冷或水冷 |
*防熱輻射屏上帶四個開口（大多數型號可選配500K或800K高溫系統） | ||||
標準配置的4K制冷機
SHI-4-2 SHI-4-4 SHI-4-5
SHI-4 SHI-4R SHI-4-15
其它結構
● 樣品垂直/水平雙向旋轉的制冷機：
Janis可提供沿垂直或水平方向旋轉的樣品托。沿恒溫器軸向可進行±360°旋轉，僅受氦氣管線和電纜的限制，精度約0.5°；沿水平方向可進行±90°旋轉，精度<0.2°。系統配有四個冷窗，*低溫度可達~4K，是需要對樣品進行精確光學準直實驗的理想選擇。
●SHI-4-15-UHV系統：
圖示為RDK-415D2B冷頭，配有固定的8”CF法蘭，二級冷臺上裝有溫度傳感器和兩個筒狀加熱器。該系統為高真空環境而設計，可直接固定在用戶提供的UHV腔上，但并非真正的UHV系統，其烘烤溫度只能達到60℃。
●特殊型SHI-4XG-15-UHV系統：
SHI-4XG-15-UHV系統為真正的超高真空（UHV）系統，在交換氣體減振的情況下可烘烤至500K，可用于掃描探針顯微鏡測試。該系統配有特殊的防熱輻射冷窗，*低溫度可達3K。
●特殊型1.5W制冷機系統用于冷卻氫氣：
SHI-4-15制冷機，配有CF法蘭，一級冷臺和二級冷臺上分別裝有熱交換器用于冷卻氫氣。該系統將直接安裝在用戶已有的真空腔上，與氫氣入口和出口管線相連。
●高溫型4K制冷機：
該系統高溫可達500K，采用RDK-101D冷頭。
●帶冷窗的4K制冷機：
配有光學冷窗的情況下，制冷功率為1.5W@4.2K的制冷機系統*低溫度可達3K。
●SHI-4R-1基質隔離系統：
