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自21世紀以來，由半導體微電子技術引發的微納米加工時代依賴于微納米尺度的功能結構與器件，實現功能結構微納米化的基礎是先進的微納米加工技術。傳統的光刻工藝需要設計定制掩膜版，而激光直寫光刻技術無需掩膜工序，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案器件；此外，激光直寫光刻技術也突破了曝光尺寸和效率的限制，使其作為一種先進的微納加工制作技術，在許多高新技術領域有著重要的應用。

臺式無掩膜激光直寫光刻系統打破了市面上傳統激光直寫設備高昂價格壁壘，是現階段市面上優性價比的一款先進的激光直寫光刻系統；采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便，不僅具有無掩膜直寫系統靈活性，而且還具有高刻寫效率，寫場范圍大，操作成本低，多種光學校準補償等特點，從成本、性能上均可以取代傳統微納加工工藝中傳統光刻機的功能.