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紫外掩膜對準曝光系統

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German First-Nano System 德國韋氏納米

美國

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面議

關注度:

945

產品介紹

美國NXQ以**的性能,經濟的價格,深受全球用戶喜愛,截至2016年底,超過5000臺NXQ曝光系統遍布全世界科研實驗室,研發中心。

NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統,融合了獨立的模塊化設計,精準控制對準和曝光等特點,自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用,適合實驗室多用戶使用。

該系統特點:

  • 鍥型誤差補償系統----獨特的WEC設計

  • 紫外燈源的多樣性選擇

  • 曝光光路的精準控制

  • 視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

  • 高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準

使用領域(包括但不限于下述領域的光刻工藝)

    • 微電子

    • LED/HBLED

    • 3D IC /晶圓制造工藝

    • 2.5D Interposer

    • MEMS

    • BioMEMS

    • 微流控芯片

    • 化合物半導體

    • 太陽能(HCPV)

    • 光電子

型號:

  • NXQ4006半自動型(可處理**6英寸基片)

  • NXQ4008半自動型(可處理**8英寸基片)

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