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儀器簡(jiǎn)介：

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設(shè)在對(duì)面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準(zhǔn)穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

我們PLD系統(tǒng)擁有**的性能價(jià)比，具有以下優(yōu)異的性能:

1. 主真空室腔體直徑18英寸，本底真空可達(dá)高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。

2. 主真空室抽氣系統(tǒng)前級(jí)泵采用無油干泵

3. ★基片加熱溫度**可達(dá)1000℃。

4. 基片臺(tái)可360度旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào)）。

5. ★基片與靶之間方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置。基片與靶間距沿Z軸（即垂直地面方向）可調(diào)。

6. 8個(gè)裝1英寸靶的坩堝（或靶盤），各坩堝之間要求相互隔離，不互相污染。

7. ★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.

8. ★ Dual Load Lock System， 兩次裝樣-送樣系統(tǒng)，高效保證傳片精準(zhǔn)

9. 設(shè)備及光學(xué)臺(tái)可聯(lián)接在一起，始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定。支撐腿帶可調(diào)節(jié)的轉(zhuǎn)輪，方便在地面整體（包括腔體系統(tǒng)和激光器）同時(shí)移動(dòng)與固定。

感謝上海交通大學(xué)使用此研究級(jí)高性能的PLD系統(tǒng)（購(gòu)買5套）， 望我們高性能價(jià)格比的PLD為廣大科研人員提供幫助！！

具體配置:

一， 超高真空腔體

二， 分子泵

三， 激光掃描系統(tǒng)

四， 襯底加熱鉑金片，**可達(dá)1200度

五，基板加熱構(gòu)造設(shè)計(jì)

六， 基板加熱電源

七， Rheed

八， Rheed軟件

九， 多靶位 ，標(biāo)準(zhǔn)配置6個(gè)1英寸靶

十，Load-Lock樣品傳輸腔體

技術(shù)參數(shù)：

一， 靶。

數(shù)量6個(gè)，大小1-2英寸，被激光照射時(shí)可自動(dòng)旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進(jìn)電機(jī)控制。

二， 基板。

采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達(dá)1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時(shí)基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境**壓力是300mtorr。

三， 基板加熱電源。

四， 超高真空成膜室腔體。

不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-7 pa。

五， 樣品傳輸室。

不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa。

六， 排氣系統(tǒng)。

分子泵和干式機(jī)械泵，進(jìn)口知名品牌。

七， 閥門。

采用超高真空擋板閥。

八， 真空檢測(cè)。

真空計(jì)采用進(jìn)口產(chǎn)品

九， 氣路兩套。

采用氣體流量計(jì)（MFC）。

十， 薄膜成長(zhǎng)監(jiān)控系統(tǒng)。

采用掃描型Rheed（可差分抽氣）。

十一， 監(jiān)控軟件系統(tǒng)。

基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換。

十二， 各種電流導(dǎo)入及測(cè)溫端子。

十三， 其它各種構(gòu)造

各種超高真空位移臺(tái)，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等。

另外我公司注重發(fā)展和銷售大面積的PLD 系統(tǒng)和電子束蒸發(fā)器和濺射沉積。目前，公司提供以下物理氣相沉積系統(tǒng)和元件產(chǎn)品：

? 大面積脈沖激光沉積系統(tǒng)

? 脈沖激光沉積元件包括靶材操縱器和智能窗

? 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

? 磁控和/或離子束濺射系統(tǒng)

? 組合沉積系統(tǒng)

? 定制的基底加熱器

產(chǎn)品具有如下基本特點(diǎn)：

1. 系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單方便。可使用大尺寸靶材生長(zhǎng)大面積薄膜，基底的尺寸直徑可從50mm 到200mm

2. 電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門，方便更換基底和靶材

3. 雙軸磁性耦合旋轉(zhuǎn)靶材操縱器，可手動(dòng)或計(jì)算機(jī)控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉(zhuǎn)器上，可手動(dòng)或電動(dòng)降低旋轉(zhuǎn)器，實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單快速地更換

4. 主腔室預(yù)留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等

5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡、反射鏡臺(tái)、動(dòng)力反射鏡支撐架和智能視窗等，無需頻繁地校準(zhǔn)光學(xué)組件。在激光通過大直徑靶材時(shí)可使其光柵掃描化（rastering），以獲得均勻性的薄膜。智能視窗不僅可精確監(jiān)視沉積過程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長(zhǎng)時(shí)間保持激光束光路的清潔

6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設(shè)計(jì)，高溫下（950°C）可與銀膠兼容使用

根據(jù)PLD 客戶的不同需求，提供以下型號(hào)：

1．NANO PLD

2．PLD 3000

3．PLD 5000

4．PLD 8000

5．PLD T100

其中NANO PLD 系統(tǒng)簡(jiǎn)單、緊湊，具有多種功能，非常適合小型的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，大面積 PLD 系統(tǒng)包括PLD 3000，PLD5000，PLD8000 非常適合于大的公共機(jī)構(gòu)，政府實(shí)驗(yàn)室和國(guó)防機(jī)構(gòu)的研發(fā)和試制生產(chǎn)。PLD T100 系統(tǒng)也就是高溫超導(dǎo)帶涂層系統(tǒng)非常適合于生產(chǎn)高溫超導(dǎo)帶和線纜，目前已有兩套系統(tǒng)賣到日本知名的國(guó)際超導(dǎo)產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究中心超導(dǎo)工學(xué)研究所（SRL-ISTEC），而且在高溫超導(dǎo)線纜中獲得了記錄電流密度，創(chuàng)高溫超導(dǎo)線材創(chuàng)新記錄。

大面積PLD 的每個(gè)系統(tǒng)的具體一些參數(shù)如下：

這些型號(hào)的設(shè)備適用于以下的客戶群：

1) 高溫超導(dǎo)研發(fā)-----合成新的高溫超導(dǎo)材料或者微調(diào)高溫超導(dǎo)材料

2) 高溫超導(dǎo)工業(yè)研發(fā)-----高溫超導(dǎo)線纜和帶沉積，移動(dòng)通信的微波過濾器，電力分配網(wǎng)的錯(cuò)誤電流限制器，超導(dǎo)磁能存儲(chǔ)器(SMES)，超導(dǎo)量子干涉磁量?jī)x元素制作，超導(dǎo)電子配件，磁共振成像應(yīng)用，磁懸浮如火車

3) 鐵電材料和設(shè)備-----使用大面積的PLD 研發(fā)

4) 電-光和光學(xué)材料-----電鍍鉻材料，電-光材料如PLZT， BST 等

5) 電介材料---如AlN 薄膜

6) 硬質(zhì)薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜

7) 透明導(dǎo)電氧化物 (TCO) 沉積

8) 測(cè)輻射熱敏元素生產(chǎn)商----用于熱跟蹤的熱探測(cè)，熱成像，熱度量衡等

9) 制備新材料特別是功能陶瓷

10) 制備納米粒子

11) 基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)聚合物薄膜

12) 制備用于MRAMs 和錄音磁頭上GMR 的鐵磁材料等