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大尺寸磁控濺射鍍膜機(jī)

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面議

關(guān)注度:

1011

產(chǎn)品介紹

技術(shù)規(guī)格:

- 多矩形陰極;

- 射頻或直流濺射(RF, DC);

- 基底尺寸:30cm x 40cm;

- 沉積時(shí)襯底振蕩;

- 常用于ITO, AZO等膜層的沉積;

- 均勻性:優(yōu)于5% (沉積TCO或金屬薄膜);

產(chǎn)品咨詢

大尺寸磁控濺射鍍膜機(jī)

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