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Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah， 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn)，全球已安裝五百多臺(tái)ALD設(shè)備。

方式: Thermal batch ALD

優(yōu)勢(shì):完全自動(dòng)化的批量生產(chǎn)系統(tǒng)，*強(qiáng)生產(chǎn)能力（每月*多40000片），成本低，產(chǎn)量高，極優(yōu)的一致性針對(duì)脆弱/溫度敏感的襯底解決方案，包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理，以實(shí)現(xiàn)*強(qiáng)工藝靈活性和產(chǎn)量

薄膜: 氧化物薄膜，包含封裝層、光學(xué)涂層氧化物薄膜，包含封裝層、光學(xué)涂層

反應(yīng)腔體大小: 無縫晶片尺寸轉(zhuǎn)換能力高達(dá)300mm