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儀器簡介：

此產(chǎn)品廣泛應用于：半導體、納米材料、鈉米科技、薄膜材料、薄膜沉積以及航空航天領(lǐng)域。

PICOSUN公司是一個國際化的設備制造商，在全球有銷售和服務機構(gòu).我們開發(fā)和制造原子層沉積反應器用于微米和納米技術(shù)應用。PICOSUN為客戶提供用戶友好，可靠及多產(chǎn)的ALD工藝工具，提供從研發(fā)到生產(chǎn)的工業(yè)放大。PICOSUN基地在芬蘭的espoo，美國總部在Detroit。SUNALE型ALD工藝工具被用于歐州、美國及亞洲前沿的科學機構(gòu)、公司。

PICOSUN擁有30多年在芬蘭ALD反應器制造而得到的專業(yè)技術(shù)。Tuomo Suntola博士，于1974年發(fā)明了ALD技術(shù)，是PICOSUN董事會的成員。我們的**技術(shù)官SVEN LINDFORS從1975年開始連續(xù)的設計ALD系統(tǒng)。綜合起來講，PICOSUN擁有了200多年的ALD經(jīng)驗并貢獻了100多項ALD**。我們悠久的歷史和廣泛的背景使PICOSUN成為ALD技術(shù)優(yōu)質(zhì)的合作伙伴。

技術(shù)參數(shù)：

技術(shù)指標

SUNALE™ R系列技術(shù)特點

基本特點：

晶片尺寸 2-6”， 50-150 mm (8’’ = 200 mm on request)

工藝溫度 Up to 500°C

反應室體積 小型、中型、大型

反應室材料 316 SS， Ti， Ni， Al (quartz)

前驅(qū)體 2-6 氣體 / 氣體 / 固體

基片裝載 氣體升降

尺寸：

尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4’’， 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D)

重量 200 kg

工況：

電源 100-240 V， 50/60 Hz， 1- or 3-phase， 3.7 kW Vac

真空泵 30-80 m3/h

載氣 99.999 % N2 / Ar， min. 2 slm

壓縮空氣 4-5.5 bar 過壓

冷卻水 反應器不需要

排氣 為真空泵及源櫥柜配備

樣品裝載選項：

Picoloader™手動樣品裝載系統(tǒng)，帶一個預真空室和閘閥

主要特點：

特點

多功能的反應器設計

全套的服務