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品牌：

拉普拉斯

型號：

Bhadra?立式

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1014

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型號

                                   

                           Bhadra?立式LPCVD BHC200


功能

  • 氮化硅/氧化硅/多晶硅（Poly-Si）/非晶硅（α-Si）薄膜沉積

  • 適用于功率半導體/襯底材料 

重要參數

  • **晶圓尺寸：8寸及以下晶圓

  • **載片量：125片/批

  • **加熱溫度：1050℃

  • 成膜種類：根據不同工藝要求工藝源可選配 

裝卸片方式

  • 立式垂直升降

  • 垂直真空密封系統 

            優勢

  • 先進的壓力控制技術

  • 五區高精度溫度場控制

  • 先進的顆粒控制技術

  • 先進微環境氧含量控制

  • 穩定的傳輸控制能力

Bhadra?立式LPCVD BHC200

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