粉體行業在線展覽
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HMPS-2120S微波等離子體CVD設備
直接聯系
成都紐曼和瑞微波技術有限公司
四川
面議
和瑞微波
HMPS-2120S微波等離子體CVD設備
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微波功率容量大、功率密度高；
◆沉積面積大、速率快、質量高；
◆安全可靠，滿足單晶、多晶金剛石產業化生產運行；
◆第三代高穩定固態功率源，新型下饋式大容積碟形放電工作腔；
◆微波功率0.5~12kW連續可調，穩定度1%；
◆放電區Φ≥100mm；均勻沉積區Φ≥75mm；
◆工作氣體：H2/CH4/N2/CO2或O2或Ar；
◆極限真空度：6×10-4Pa；真空漏率：10-9Pa·m3/s；
◆工作壓力：0.1~30kPa；自動控制；
◆紅外測溫：600~1800℃（雙色）；
◆PLC和15寸觸摸屏多參數自動控制。
WSPS-2450-300-CMFA固態微波源
WSPS-915-100W/200W固態微波源
WSPS-2450-100W/200W固態微波源
WSPA-5800-100M固態功放模塊
WSPS-433-200-CMFA固態微波源
WSPS-433-200-CCFA固態微波源
DM-8000微波等離子體CVD設備
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