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大型離子氮化爐

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普發(fā)拓普真空設(shè)備(北京)有限公司.

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4264

產(chǎn)品介紹

脈沖等離子PulsPlasma?系統(tǒng)包括真空爐室,輔助加熱系統(tǒng),保溫系統(tǒng),溫度測(cè)量系統(tǒng),爐室開(kāi)關(guān)系統(tǒng),工藝氣體循環(huán)系統(tǒng),冷卻系統(tǒng),工藝控制系統(tǒng)以及離子發(fā)生器系統(tǒng)。這其中的離子發(fā)生器系統(tǒng)是普發(fā)拓普公司的**設(shè)計(jì),可以完全避免打弧現(xiàn)象的發(fā)生而且節(jié)能效果明顯。爐體臥式設(shè)計(jì),適合處理大型零件的處理。根據(jù)設(shè)備的大小,加熱控制區(qū)至少配有三組獨(dú)立控制升溫和降溫的加熱器,通過(guò)這些獨(dú)立控制的加熱器獲得**的均溫性。


工藝特點(diǎn):

  • 通過(guò)熱壁技術(shù)實(shí)現(xiàn)良好的均溫性

  • 能源有效利用,工藝氣體消耗少,無(wú)污染氣體

  • 靈活的滲氮溫度,溫度范圍 300 ℃ - 600 ℃

  • 白亮層可控

  • 可處理不銹鋼

  • 可處理燒結(jié)鋼

  • 可處理鈦合金

  • 可處理高合金鋼

 

設(shè)備特點(diǎn):

  • 不產(chǎn)生打弧,工件表面無(wú)破壞

  • 全自動(dòng)工藝控制,工件內(nèi)部測(cè)溫

  • 臺(tái)車(chē)式裝載系統(tǒng),多達(dá)40噸的裝載量

  • 獨(dú)特的加熱和控制系統(tǒng),至少3區(qū)獨(dú)立的加熱和冷卻區(qū)域

  • 控制區(qū)溫度均勻分布

  • 獨(dú)有的PulsPlasma?電源,電壓和電流近乎方波,幾微妙內(nèi)獲得

  • 設(shè)定的全部脈沖電流,主動(dòng)抑制打弧監(jiān)測(cè)(開(kāi)關(guān)時(shí)間< 0.1 μs)

  • 電源可升級(jí)至5年質(zhì)保

  • 可在低溫下對(duì)工件表面進(jìn)行等離子清洗

  • 航天保溫材料,熱容量低,功率損耗低,節(jié)省重量


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大型離子氮化爐

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