粉體行業在線展覽
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CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
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上海創行實業有限公司
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CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
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CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
密封特征：雙端面集裝式+無死角+靜止式補償
密封應用：電池材料、新材料、涂料油墨、納米農藥、食品日化、等
設備類型：葉片式、渦輪式、多級乳化設備
運行范圍：
軸徑：d=16mm至150mm
溫度：T=-40℃至+280℃
壓力：P=≤ 1.6Mpa
轉速：V=≤6500r/ms
CX-GMJ-P 干運行/攪拌釜系列-機械密封
CX-GMJ 干運行攪拌釜系列-機械密封
CX-JLB 鋰電漿料泵系列-機械密封
CX-RML 立式乳化研磨系列-機械密封
CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
CX-SML立式砂磨機系列-機械密封
CX-SMW
CX-ST-D 底入式攪拌器密封
CX-M481/205/206/2004/2005/2006/2007機械密封
平衡型/非平衡型/單端面/雙端面/散裝式密封
CX-SRM/204/204B/半集裝密封
CX-MRD 側/臥式攪拌器密封
