粉體行業在線展覽
GK系列高比表面積氫氧化鈣生產線
100-150萬元
GK系列高比表面積氫氧化鈣生產線
480
高比表氫氧化鈣是由氧化鈣為原料,在生產過程中添加反應助劑,經特定工藝生產而成的一種高附加值的氫氧化鈣產品。
粉體結構有別于普通的氫氧化鈣顆粒結構。顆粒含有大量的空穴、褶皺狀態。其比表面積是普通氫氧化鈣的3倍以上,在氣體吸附、反應活性、流動性、反應速度上具有普通粉體顯著優勢,更易與硫結合與反應的特性。倍數性質提高了鈣硫的反應效率,成為替代小蘇達干法脫硫劑的**產品。
GKLM1100
GK1720A
GK1720
高比表面積氫氧化鈣設備
方解石雷蒙磨
4R3220/GK1280/5R4128
GK1620/1700/1850
GKSH新型石灰消化器
GK系列雷蒙磨
GK系列雷蒙磨粉機
GK1920/2150/2500
GK1280/5R4128/GK1500