粉體行業(yè)在線展覽
FM-PR-PDS
Fastmicro 掩膜版|保護(hù)膜表面顆粒物快速檢測(cè)系統(tǒng)(PDS)
為掩膜版、掩膜版保護(hù)膜以及基板(襯底)制造工藝,提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。
該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高效且提供全方位服務(wù)的選擇。它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式,以及較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。
產(chǎn)品特點(diǎn):
高通量檢測(cè):每小時(shí)可檢測(cè) 400 片晶圓(WPH)
數(shù)據(jù)輸出:根據(jù) ISO 14644-9 標(biāo)準(zhǔn),在用戶界面和 PDF 報(bào)告輸出 SCP 等級(jí)
正反兩面檢測(cè):單次測(cè)量中完成正反兩面檢測(cè)(無需翻轉(zhuǎn))
檢測(cè)范圍:能夠檢測(cè) ≥ 0.1μm 聚苯乙烯乳膠(PSL)等效顆粒(經(jīng) NIST 認(rèn)證)
生產(chǎn)過程中的一致性測(cè)量
快速: 能在數(shù)秒內(nèi)完成大面積成像
定量: 適用于生產(chǎn)和研發(fā)環(huán)境中的質(zhì)量鑒定與監(jiān)測(cè)
操作簡便: 不受操作人員影響,自動(dòng)化,潔凈抓取方式
精準(zhǔn): 高分辨率測(cè)量(數(shù)量、位置、尺寸)
一致性: 每次測(cè)量都保持客觀、穩(wěn)定
高通量: 能在工藝時(shí)間窗口內(nèi)得出結(jié)果
FM-PDS: 直接檢測(cè)表面顆粒
該系統(tǒng)可為晶圓制造工藝、下一代化合物半導(dǎo)體以及先進(jìn)封裝應(yīng) 用,提供高通量的表面顆粒污染檢測(cè)服務(wù)。
該系統(tǒng)對(duì)粒徑大于 0.1μm 的顆粒具有高靈敏度,是一種高 效且提供全方位服務(wù)的選擇。
它能以手動(dòng)或自動(dòng)的操作方式,以及 較低的維護(hù)成本,取代傳統(tǒng)的顆粒檢測(cè)系統(tǒng)。
對(duì)于下一代半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用, PDS 系統(tǒng)具備獨(dú)特的屬性:雙面同 時(shí)掃描(選配);
靜態(tài)視場掃描(在圖像采集過程中無需移動(dòng)產(chǎn)品)。
Pharos-STEM
Phenom Pharos
Neoscan N90
Phenom XL
Phenom Pro
ParticleMetric
ParticleX
VSP-G1
N80
N70
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TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
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JL-A3
BSD-PS
V-Sorb2800P-金埃譜
PT-01S
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FT4
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