粉體行業(yè)在線展覽
面議
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MAXIM 二次離子濺射中性粒子質譜儀可分析二次陰、陽離子動態(tài)和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應用于SIMS和SNMS的光學采樣。
·光柵控制,增強深度分析能力·所有能量范圍內,離子行程的*小擾動,及恒定離子傳輸·靈敏度高 / 穩(wěn)定的脈沖離子計數(shù)檢測器
·質量數(shù)范圍: 300amu,500amu,1000amu
·檢測器:離子計數(shù)探測器、正負離子探測器、107 cps
·質量過濾器: 3F四級桿
·桿直徑: 9mm
·**加熱: 250℃
·離子源:電子轟擊,可用于SNMS和RGA的單根燈絲
BELMASS II
BSD-MASS
L820
Master 400
BELMASS
ZQJ-3000型
HESZKAT800
EXPEC 5231
ICP-MS 2000系列
熱分析 - 四極桿質譜儀 QMS 403 Aёolos? Quadro 聯(lián)用
DEMS
Master 400 質譜儀