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電子式：NH4OH

CASNo：1336-21-6

用途：超純氨水主要應用于半導體芯片生產的工藝間清洗，去除晶圓芯片表面的水跡，油污和無機物塵埃等，是芯片加工中必不可少的材料。

說明：我司所生產的電子級氨水主含量（28.5-29.5）%，單個雜質金屬離子含量≤10ppt，硫酸根≤20ppb，磷酸根≤10ppb，顆粒(≥0.1μm)≤25個/ml。

產品優勢:由于在超凈高純電子級氨水的精餾純化過程中，氣體中夾雜的霧滴會污染*終產品，導致產品無法達到半導體企業所需要的10ppt 級別水平。于是我司研制了超純的PTFE絲網除霧器替代傳統材質的絲網除霧器，解決了液氨氣化過程中霧滴不易去除的難題，滿足氨氣純化需求，保證了半導體企業所需的純度要求。

包裝:200公斤壓力容器,1000公斤IBC桶，20噸TANK罐