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特點(diǎn):

1.低溫成膜。溫度對(duì)基材影響小，不會(huì)產(chǎn)生變形;適用于PET、PI等基材卷材薄膜;2.膜厚可設(shè)計(jì)。通過工藝調(diào)整，可自行設(shè)計(jì)沉積較薄或較厚的鍍膜層;3.多個(gè)靶位設(shè)計(jì)，工藝靈活。整機(jī)可裝八文靶，既可用單質(zhì)金屬靶材也可用化合物、氧化物靶材，可制備單一結(jié)構(gòu)的單層膜，也可制備復(fù)合結(jié)構(gòu)的多層膜，工藝非常靈活

設(shè)備可制備電磁屏蔽膜、柔性線路板鍍膜、各種介質(zhì)膜、多層結(jié)構(gòu)AR減反膜、HR高反膜、彩膜等，設(shè)備適用范圍非常廣范，一次走膜即可完成單層膜沉積。

設(shè)備可采用單質(zhì)金屬靶材如A1、C、Cu、Fe、N、SUS、TIA等，或化合物靶材如Si02、Si3N4、AI203、Sn02、Zn0、Ta205、ITO、AZ0等。

設(shè)備尺寸小，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，能耗低，調(diào)整靈活，非常適用工藝、產(chǎn)品研發(fā)或小批量量產(chǎn)的需求。