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片盒清洗機
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片盒清洗機
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為半導體晶圓存儲容器(FOUP)設計的自動化清洗設備,通過多槽化學清洗、超聲波空化、噴淋漂洗、干燥等工藝,高效去除FOUP表面的油污、顆粒、氧化物及工藝殘留物,適用于半導體制造、封裝測試、先進研發(fā)實驗室等場景,滿足ISO 14644 Class 10潔凈度要求。
核心優(yōu)勢
全自動智能化清洗
機器人上下料:集成機械臂自動抓取FOUP,實現全程無人化操作;
多槽聯動設計:化學清洗→超聲波清洗→噴淋漂洗→熱風干燥,全流程閉環(huán)控制;
工藝參數可調:通過PLC+觸摸屏編程,精準設置溫度(20°C-80°C)、時間、超聲波頻率等參數。
高精度潔凈度保障
UF級超純水漂洗:配備0.1μm顆粒過濾器,杜絕二次污染;
PFA/PTFE耐腐蝕槽體:兼容HF、H2O2、DI Water等化學液,適應嚴苛清洗環(huán)境;
顆粒去除率≥99.99%:殘留物≤0.03μm,滿足先進制程需求(如5nm以下芯片)。
高效節(jié)能與安全合規(guī)
化學液循環(huán)系統(tǒng):減少耗材消耗,降低運行成本;
低溫干燥技術:避免FOUP變形或材質損傷;
SEMI S8/S2認證:防爆設計、泄漏檢測、緊急停機功能,確保操作安全。
靈活適配性
兼容多種FOUP規(guī)格:支持12英寸、14英寸標準盒及定制尺寸;
模塊化設計:可增配UV光照消毒、真空干燥等模塊,滿足特殊需求。
技術參數
參數類別 | 參數詳情 |
---|---|
清洗對象 | 半導體FOUP(前開式統(tǒng)一晶圓盒)、存儲卡匣、載具 |
兼容尺寸 | 12英寸、14英寸標準FOUP,可定制15英寸以上或異形盒體 |
清洗工藝 | 化學浸泡、超聲波清洗(頻率20-40kHz)、噴淋漂洗、熱風/真空干燥 |
清洗精度 | 顆粒去除率≥99.99%,殘留物≤0.03μm |
控制方式 | PLC+人機界面(HMI),支持遠程監(jiān)控與數據追溯 |
安全等級 | SEMI S8/S2合規(guī),防爆設計(可選),化學液泄漏應急處理系統(tǒng) |
電源/氣源 | AC 380V/50Hz,N2/CDA/DI Water(根據工藝需求配置) |
應用場景
半導體制造:
光刻機配套FOUP清洗,避免光刻膠殘留污染晶圓;
蝕刻后FOUP去污,防止交叉污染;
封裝前FOUP清潔,提升芯片封裝良率。
封裝測試(OSAT):
存儲卡匣清洗,確保多批次晶圓運輸的潔凈度;
老化FOUP翻新,延長設備使用壽命。
科研機構與實驗室:
先進制程研發(fā)中FOUP的清潔驗證;
第三代半導體(SiC/GaN)材料存儲容器清洗。