粉體行業(yè)在線展覽
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PECVD系統(tǒng)
直接聯(lián)系
鄭州科佳電爐有限公司
河南
面議
科佳電爐
PECVD系統(tǒng)
1733
產(chǎn)品介紹:
該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行Si02、SiNx薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，Sic膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合干有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。
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PECVD系統(tǒng)
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