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臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)

HCVD-060609-C

直接聯系

湖南頂立科技股份有限公司

湖南長沙

產品規格型號
參考報價:

100-150萬元

品牌:

頂立科技

型號:

HCVD-060609-C

關注度:

20357

產品介紹

 

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化學氣相沉積爐(碳化硅)可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。

 

技術特征

 

☆ 采用先進的控制技術,能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內沉積氣流穩定,壓力波動范圍??;
☆ 采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強;
☆ 采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
☆ 對沉積產生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產物能進行有效處理;
☆ 采用**設計防腐蝕真空機組,持續工作時間長,維修率極低。

 

產品規格

 

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主要配置

 

☆ 爐門:絲桿升降/液壓升降/手動升降;旋轉移開/平行移開(大尺寸爐門);手動鎖緊/自動鎖圈鎖緊 

☆ 爐殼:全碳鋼/內層不銹鋼/全不銹鋼
☆ 爐膽:軟碳氈/軟石墨氈/硬質復合氈/CFC
☆ 加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細顆粒石墨
☆ 工藝氣路系統:體積/質量流量計
☆ 熱電偶:K分度號/N分度號/C分度號/S分度號

  


產品咨詢

臥式化學氣相沉積爐(碳化硅)

HCVD-060609-C

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