粉體行業(yè)在線展覽
擴(kuò)散爐
面議
賽瑞達(dá)
擴(kuò)散爐
425
擴(kuò)散爐應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽(yáng)能電池及大規(guī)模集成電路制造等領(lǐng)域?qū)M(jìn)行擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝,可用于4-8英寸工藝尺寸。
控制系統(tǒng)特點(diǎn)
◎ 工藝曲線的自動(dòng)運(yùn)行控制功能
◎ 可存儲(chǔ)多組PID參數(shù)供系統(tǒng)運(yùn)行調(diào)用功能
◎ 系統(tǒng)故障自診功能
◎ 停電后斷點(diǎn)繼續(xù)運(yùn)行功能等等
◎ 具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的軟件系統(tǒng),良好的人機(jī)界面
◎ 具有多點(diǎn)溫度補(bǔ)償
◎ 具有多種故障報(bào)警及各種安全互鎖保護(hù)功能
★支持SECS/GEM通訊
★該系統(tǒng)可根據(jù)用戶的特殊要求增減或開(kāi)發(fā)相應(yīng)的功能
主要技術(shù)指標(biāo)
◎ 晶圓尺寸:4~8英寸
◎ 工藝管數(shù):1~4管/臺(tái)
◎ 工作溫度范圍:400℃~1286℃
◎ 恒溫區(qū)長(zhǎng)度:300~1500mm
◎ 單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性:+0.5℃/24h
◎ **可控升溫速度:15℃/min
◎ **降溫速度:5℃/min
★可為用戶量身定制非標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品
略
VSF-V 石英槽沉爐
HBOX-1200
氮化鋁粉體量產(chǎn)爐
厚膜燒結(jié)爐
碳化硅涂層CVD爐
蓄熱式熱力氧化RTO
中頻感應(yīng)爐
燒結(jié)爐(硬質(zhì)合金)
FZL(T)-360/17
YSJ-171212
JRF 系列