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擺動管式爐是一種結合了管式爐高溫加熱功能與機械擺動裝置的實驗室或工業設備，主要用于材料在高溫環境下的均勻熱處理、燒結、合成等工藝。其核心設計通過爐體的周期性擺動，實現爐內樣品的動態加熱，有效改善溫度均勻性、促進氣體擴散或反應物接觸，尤其適用于對溫度梯度敏感或需要均勻氣氛處理的實驗場景。

1. 動態加熱與溫度均勻性

爐體擺動功能（通常為0°~±25°可調角度，擺動頻率0.5~5 rpm）使樣品在加熱過程中持續改變位置，避免局部過熱或溫度梯度，尤其適用于長管式爐中樣品的均勻加熱。

典型應用：粉末冶金燒結、陶瓷材料致密化、納米材料合成等需嚴格控制溫度均勻性的工藝。

2. 氣氛控制與反應優化

可通入惰性氣體（如Ar、N?）或還原性氣體（如H?、CO），結合擺動功能促進氣體與樣品充分接觸，提升反應效率。

典型應用：催化劑制備、金屬氧化物的還原處理、碳材料的氣相沉積等。

3. 工藝靈活性與適應性

擺動參數（角度、頻率）可根據工藝需求編程調整，適應不同樣品的熱處理要求。

兼容多種爐管材質（石英、剛玉、金屬合金），支持高溫（**1200°C）、真空或高壓環境。