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超高溫高速退火爐

日本Advance Riko公司推出的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，可對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。

應(yīng)用領(lǐng)域 

?  SiC氧化膜的生成和激活；

?  半導(dǎo)體開發(fā)與研究；

?  玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理；

?  作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理；

?  陶瓷材料的熱沖擊測(cè)試。

產(chǎn)品特點(diǎn)

?  可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃；

?  可以加熱后直接水淬；

?  紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；

?  緊湊的桌面型設(shè)計(jì)；

?  通過USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；

?  在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。

基本參數(shù)

溫度范圍：室溫-1800℃   

樣品尺寸：W15mm×L15mm×T1mm   

樣品支架：氧化鋁或者高純碳  

加熱氛圍：多種  

熱電偶：JIS B φ0.3 （W-Re可選）