粉體行業在線展覽
A500
10-20萬元
普析
A500
275
內容
儀器主要特點:
1. 性能優越
全反射非球面消色差光學系統,采用自研紫外高反射率鍍膜技術,獲得優越的光斑均勻性和光通量,大幅提高儀器信噪比。
2. 一體化平臺設計,保證光學系統穩定性
采用一體化平臺設計,合理的器件布局,確保優異的熱穩定性和抗震性能。
3、超強的扣背景能力
火焰和石墨爐均采用偏振塞曼模式 ,可以在全波長范圍內進行塞曼背景較正,可獲得1Abs時150倍以上, 2Abs 時100倍以上的出色的扣背景性能!
4、采用雙檢測器,有利于長期工作穩定性
兩路偏振光,對應同時工作的雙檢測器,可以實時進行背景校正,以獲得精確的檢測結果。
基線穩定性優于0.0004@30min