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橢圓偏振光譜儀主要用于準(zhǔn)確測(cè)量薄膜厚度，光學(xué)常數(shù)，薄膜表面粗糙度以及其他的物理，化學(xué)，光學(xué)性能。美國(guó)AST公司設(shè)計(jì)和制造適合不同應(yīng)用的高品質(zhì)橢圓偏振光譜系統(tǒng)，其產(chǎn)品具有強(qiáng)大的分析功能軟件TFProbe3.0，可以幫助研發(fā)或?qū)嶒?yàn)人員迅速地獲得薄膜的厚度，表面粗糙度，合金成分和介電常數(shù)等數(shù)據(jù)。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

• 易于安裝

• 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件，很容易操作

• 先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計(jì)，以確保能發(fā)揮出好的系統(tǒng)性能

• 能夠自動(dòng)的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?/p>

• 高功率的DUV－VIS光源，能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)

• 基于陣列設(shè)計(jì)的探測(cè)器系統(tǒng)，以確保快速測(cè)量

• zui多可測(cè)量12層薄膜的厚度及折射率

• 能夠用于實(shí)時(shí)或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)

• 系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫(kù)

• 對(duì)于每個(gè)被測(cè)薄膜樣品，用戶可以利用先進(jìn)的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫(kù)、也可以進(jìn)行色散或者復(fù)合模型（EMA）測(cè)量分析

• 三種不同水平的用戶控制模式：專家模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初級(jí)用戶模式

• 靈活的專家模式可用于各種獨(dú)特的設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試

• 健全的一鍵按鈕(Turn－key)對(duì)于快速和日常的測(cè)量提供了很好的解決方案

• 用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來(lái)配置參數(shù)的測(cè)量

• 系統(tǒng)有著全自動(dòng)的計(jì)算功能及初始化功能

• 無(wú)需外部的光學(xué)器件，系統(tǒng)從樣品測(cè)量信號(hào)中，直接就可以對(duì)樣品進(jìn)行準(zhǔn)確的校準(zhǔn)

• 可調(diào)節(jié)高度及傾斜度

• 能夠應(yīng)用于測(cè)量不同厚度、不同類型的基片

• 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測(cè)量波長(zhǎng)擴(kuò)展、焦斑測(cè)量等各種特殊的需求

• 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。

• 可用于微觀區(qū)域選項(xiàng)的數(shù)字成像工具

• 對(duì)整個(gè)小區(qū)域可進(jìn)行反射測(cè)量的整體式反射計(jì)

系統(tǒng)配置：

• 型號(hào)：SE200BA-MSP-M300

• 探測(cè)器：陣列探測(cè)器

• 光源：高功率的DUV-Vis-NIR復(fù)合光源

• 指示角度變化：可編程設(shè)定，自動(dòng)可調(diào)

• 平臺(tái)：ρ-θ配置的自動(dòng)成像

• 軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

• 整合了SE和MSP系列的優(yōu)點(diǎn)

• 計(jì)算機(jī)：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

• 電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

• 保修：一年的整機(jī)及零備件保修

基本參數(shù)：

• 波長(zhǎng)范圍：250nm到1000 nm

• 波長(zhǎng)分辨率: 1nm

• 光斑尺寸：1mm至5mm可變

• 入射角范圍：10到90度

• 入射角變化分辨率：0.01度

• 數(shù)字成像像素：130萬(wàn)

• 有效放大倍數(shù)：1200×

• 長(zhǎng)物鏡工作距離：12mm

• MSP光速尺寸：2-500μm可調(diào)

• 樣品尺寸：zui大直徑為300mm

• 基板尺寸：zui多可至20毫米厚

• 測(cè)量厚度范圍*：0nm〜10μm

• 測(cè)量時(shí)間：約1秒/位置點(diǎn)

• 精度*：優(yōu)于0.25％

• 重復(fù)性誤差*：小于1 Ǻ

產(chǎn)品可選項(xiàng)：

• 用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量

• 用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑

• 高分辨率數(shù)字?jǐn)z像頭

• 用于MSP的超長(zhǎng)物鏡

• X－Y成像平臺(tái)(X-Y模式，取代ρ-θ模式)

• 加熱/致冷平臺(tái)

• 樣品垂直安裝角度計(jì)

• 波長(zhǎng)可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍

• 掃描單色儀的配置

應(yīng)用領(lǐng)域： 

• 玻璃鍍膜領(lǐng)域（LowE、太陽(yáng)能…）

• 半導(dǎo)體制造（PR，Oxide， Nitride..)

• 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

• 醫(yī)學(xué)，生物薄膜及材料領(lǐng)域等

• 油墨，礦物學(xué)，顏料，調(diào)色劑等

• 醫(yī)藥，中間設(shè)備

• 光學(xué)涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

• 半導(dǎo)體化合物

• 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜

• 非晶體，納米材料和結(jié)晶硅

詳情關(guān)注：北京燕京電子有限公司