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為SEM和TEM分析生產同質和導電的金屬或碳涂層，之前從未有過比與Leica EM ACE200涂層系統更方便的設備了。 配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機后，可以在全自動化系統中獲得完全可重復的結果，實現了一臺EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統在一臺儀器中提供可互換機頭的組合儀表。 各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉、輝光放電和可交換屏蔽共同構成這臺低真空鍍膜機

技術參數：

1、適用于常規SEM/TEM/DEX噴涂要求

2、可選離子濺射模式、碳絲蒸發模式、或雙模式、可選揮發放電功能

3、方向型離子濺射模式，可提高平面樣品鍍膜效果，獨特的脈沖式碳絲蒸發模式，實現對碳膜厚度的控制

4、可選配石英膜厚監控器，可程序化控制膜厚，并反饋鍍膜儀，精度為0.1nm

5、標配有鍍膜金屬擋板，可用于干預濺射，確保鍍膜純度

6、**設計方形樣品室，尺寸：140mm寬x145mm深x150mm高，樣品臺直徑80mm

7、工作距離：30-100mm

8、濺射電流：≤150mA

9、極限真空度：≤7x10-3mbar

10、一體化觸摸控制界面，操作簡單