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石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度，而目前成熟的傳統(tǒng)半導體刻蝕系統(tǒng)在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統(tǒng)功率較大、難以精細控制的問題，Moorfield Nanotechnology與曼徹斯特大學諾獎得主Andre Geim課題組聯(lián)合研發(fā)了臺式超精準二維材料等離子軟刻蝕系統(tǒng)- nanoETCH。與傳統(tǒng)的刻蝕方案相比，nanoETCH在石墨烯和2D材料的關鍵加工中表現(xiàn)出了很高的性能。該系統(tǒng)對輸出功率的分辨率可到達毫瓦量級，對二維材料可實現(xiàn)超精準的逐層刻蝕，也可實現(xiàn)對二維材料進行層內(nèi)缺陷制造，還可對石墨基材等進行表面處理。該系統(tǒng)性能已經(jīng)在劍橋大學石墨烯中心、曼徹斯特大學、英國國家石墨烯中心、西班牙光子科學研究所等諸多用戶實驗室得到驗證。

該系統(tǒng)可刻蝕3英寸或更大尺寸的樣品，樣品放置在專門設計的樣品臺上，低功率毫瓦級精細控制的射頻單元提供高精度的刻蝕功率，分子泵高真空系統(tǒng)可確保樣品免受污染。

應用方向舉例：

石墨基材的處理：表面處理，更有利于剝離出大面積的石墨烯

微納刻蝕：去除石墨烯，對其他區(qū)域無損傷

缺陷加工：在石墨烯層中制造點缺陷

主要特點：

◎ 軟刻蝕功率：<30w 高精度射頻源

◎ MFC-流量計控制

◎ 3英寸、6英寸樣品臺

◎ 全自動觸屏操作系統(tǒng)

◎ 設定、保存多個刻蝕程序

◎ 可連接電腦記錄數(shù)據(jù)

◎ 本底真空<5×10^-7 mbar

◎ 易于維護

◎ 完備的安全性設計

◎ 兼容超凈室

◎ 穩(wěn)定的性能表現(xiàn)

系統(tǒng)選件：

◎ 機械泵類型可選

◎ 腔體快速充氣

◎ 超高精度射頻源控制

◎ 高精度氣壓控制

◎ 增加過程氣體

用戶單位：