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應(yīng)用領(lǐng)域：

HW-Touch石墨紅外消解板具有消解快速、防回流、高效、節(jié)能、方便等優(yōu)點(diǎn)，已成功用于環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)樣品前處理，同時(shí)可用于微波消解的預(yù)處理和趕酸處理，是原子吸收光譜儀（AAS）、原子熒光光譜儀（AFS）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）等分析儀器的理想配套產(chǎn)品。

儀器特點(diǎn)：

1)加熱均勻：加熱體選用導(dǎo)熱性能優(yōu)越的耐高溫高純石墨，保證消解面板溫度均勻，中心點(diǎn)與邊緣間溫差小；消解多個(gè)樣品時(shí)能保證各個(gè)樣品在相同的反應(yīng)溫度和條件下進(jìn)行批量處理，克服了傳統(tǒng)的平板電熱板的種種缺陷。

2)耐腐蝕：高純石墨表面涂有特氟隆涂層，易清潔且耐腐蝕，可以在強(qiáng)酸強(qiáng)堿等腐蝕環(huán)境中放心使用。

3)控制精確：PID溫控系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單方便，性能優(yōu)良，經(jīng)久耐用。控溫精度±1.0℃，加熱速率可調(diào)，實(shí)現(xiàn)程序升溫并控制加熱保持時(shí)間，完成加熱程序后自動(dòng)停止加熱。

4)高效：有效加熱面積為：470×314mm，可進(jìn)行樣品批次處理，提高工作效率。

5)應(yīng)用范圍廣泛：可用于實(shí)驗(yàn)室常規(guī)加熱反應(yīng)；可精確控制樣品消解；可為微波消解后的樣品快速趕酸，無需轉(zhuǎn)移至其他同功能容器中即可定容。

6)高溫：采用紅外加熱方式，溫度可達(dá)到460℃，特殊高溫特氟隆鍍層高純石墨作為加熱材質(zhì)。

技術(shù)參數(shù)：