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濺射設(shè)備 MVS

MVS提供單靶材或多靶濺射設(shè)備。可根據(jù)用戶需求定制。

制備透明導電薄膜 (如ITO，AZO)。

MVSystems， Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）創(chuàng)建于1989年。

曼登博士曾在英國丹迪大學從師于斯皮爾（Walter Spear)教授，是1970年代*早從事非晶硅材料和器件研究的人員之一。

曼登博士在非晶硅薄膜晶體管（TFT)方面進行了開創(chuàng)性的研究，這是他的博士論文的主要內(nèi)容之一。非晶硅薄膜晶體管現(xiàn)已成為平板顯示器中必不可缺的重要器件。

公司在薄膜半導體技術(shù)和先進的高真空半導體薄膜沉積設(shè)備方面擁有14項**，包括：

多腔室PECVD沉積系統(tǒng) – 主要產(chǎn)品 用于柔性襯底的Reel-to-reel多室系統(tǒng) - 主要產(chǎn)品

碳熱絲化學氣相沉積設(shè)備 摻氟納米硅（微晶硅）材料

P型寬帶隙非晶硅材料 摻氟二氧化錫絨面透明導電膜（與日本Asahi公司合作）

公司生產(chǎn)制造的80多臺設(shè)備已銷往全世界23個國家和地區(qū)。

公司生產(chǎn)的主要薄膜材料和器件產(chǎn)品包括：

材料

器件

非晶硅（a-Si:H)

薄膜硅太陽電池

納米(微晶)硅 (nc-Si)

薄膜晶體管

氮化硅(SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化硅(SiON)

成像器件

氧化鋅(AZO)，銦錫氧化物(ITO)， 二氧化錫(SnO2)

X光探測器

MVSystems公司設(shè)計，制造和提供各類單腔室和多腔室薄膜沉積設(shè)備。另外，根據(jù)用戶的需求，各種

PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以單個制造，也可配備到現(xiàn)有的團簇型（星型）或是直線型沉積系。我們公司的工程設(shè)計部門盡可能為用戶著想，以使用戶們獲取他們*需要的且價格合適的設(shè)備。