粉體行業(yè)在線展覽
面議
464
產(chǎn)品簡介:SE-VM 是一款高精度快速測量光譜橢偏儀。可通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)光學參數(shù)薄膜和納米結構的表征分析,適用于薄膜材料的快速測量表征。支持多角度,微光斑,可視化調(diào)平系統(tǒng)等高兼容性靈活配置,多功能模塊定制化設計。
高精度橢偏測量解決方案;超高精度、快速無損測量;支持多角度、微光斑、可視化調(diào)平系統(tǒng)功能模塊靈活定制;豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結構模型庫,保證強大數(shù)據(jù)分析能力。
廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現(xiàn)光學薄膜、納米結構的光學常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析。
產(chǎn)品型號 | SE-VM光譜橢偏儀 | ||
主要特點 | 1、采用高性能進口復合光源,光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm) 2、高精度旋轉(zhuǎn)補償器調(diào)制、PCRSA配置,實現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集 3、支持系列配置靈活,可根據(jù)不同應用場景支持多功能模塊化定制 4、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料 | ||
技術參數(shù) | 1、自動化程度:手動變角 2、應用定位:通用型 3、基本功能:Psi/Delta、N/C/S、R/T等光譜 4、分析光譜380-1000nm(可擴至210-1650nm) 5、單次測量時間:0.5-5s 6、重復性測量精度:0.01nm 7、光斑大小:大光斑2-3mm,微光斑200μm 8、入射角調(diào)節(jié)方式:手動變角 9、入射角范圍:55-75°(5°步進),90° 10、找焦方式:手動找焦 11、Mapping行程:不支持 12、支持樣件尺寸:**至180mm | ||
可選配件 | 1 | 溫控臺 | |
2 | Mapping擴展模塊 | ||
3 | 真空泵 | ||
4 | 透射吸附組件 |
定制5臺機連體配套
SEM5000X
防爆觸摸屏/防爆電腦/防爆電腦
金屬回收系統(tǒng)
DLabs-MRS
熱風循環(huán)烘箱CT-C系列
自動吸盤振動器離心式G08T
低溫催化LCO
干燥機控制
智能控制系統(tǒng)
PicoFemto掃描電鏡原位光電力一體化系統(tǒng)
BSD-TD-K氣體置換法