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產(chǎn)品型號

GSL-PECVD-300化學(xué)氣相沉積

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）

2、電：AC380V 50Hz，必須有良好接地

3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣（純度99.99%以上），需自備實(shí)驗(yàn)所需氣體氣瓶（自帶?10mm雙卡套接頭）及減壓閥

4、場地：設(shè)備尺寸2200×2000mm×1500mm，承重1000kg以上

5、通風(fēng)裝置：需要

主要特點(diǎn)

1、所需成膜溫度低

2、沉積速率快，應(yīng)用廣泛

3、體積小，操作簡便

4、采用射頻為增強(qiáng)源易于控制

5、清理安裝便捷。

6、一體化觸摸屏控制

技術(shù)參數(shù)

1、系統(tǒng)采用單室筒式結(jié)構(gòu)，手動前開門；

2、真空室組件及配備零部件全部采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造（304），氬弧焊接，表面采用噴玻璃丸+電化學(xué)拋光鈍化處理配有可視觀察窗口，并帶擋板，真空有效尺寸為Φ300mm×300mm；

3、極限真空度：≤6.67x10-4Pa (經(jīng)烘烤除氣后，采用600L/S分子泵抽氣，前級采用4L/S)；

系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S； 系統(tǒng)從大氣開始抽氣到5.0x10-3 Pa，40分鐘可達(dá)到； 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5 Pa；

4、采用樣品在下，噴淋頭在上的電容式耦合方式進(jìn)氣；

5、樣品加熱**加熱溫度：500℃，溫控精度：±1°C，采用控溫表進(jìn)行控溫；

6、噴淋頭尺寸：Φ90mm，噴淋頭與樣品之間電極間距40-100mm在線連續(xù)可調(diào)（可根據(jù)工藝調(diào)整），并帶有標(biāo)尺指數(shù)顯示；

7、 沉積工作真空：0.133-133Pa（可根據(jù)工藝調(diào)整）；

8、射頻電源：頻率 13.56MHz，**功率500W，全自動匹配；

9、.氣體種類（用戶提供），使用質(zhì)量流量控制器控制進(jìn)氣。

10、系統(tǒng)設(shè)有尾氣處理系統(tǒng)(用戶自備)。

產(chǎn)品規(guī)格

整機(jī)尺寸：1200x1500x1500mm；

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

電源控制系統(tǒng)

1套

2

真空機(jī)組

1套

3

真空測量

1套