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經濟型臺式磁控濺射系統

經濟型臺式磁控濺射系統

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重慶眺望科技有限公司

重慶

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品牌：

重慶眺望

型號：

經濟型臺式磁控濺射系統

關注度：

490

產品介紹

主要特點

經濟型臺式濺射系統

可集成5個1.5英寸共濺射靶

向上或向下濺射

沉積均勻性+1-2.5% @ 3"(75mm)基片

選配load-lock預真空室

基片加熱溫度850℃℃，旋轉速率0-40rpm，直流和射頻偏壓，50mmZ軸可調工作距離··真正的共焦沉積系統，滿足單層和多層薄膜沉積應用

可集成4路MFC氣路，可進行反應濺射

計算機控制或半自動控制

高真空或超高真空


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經濟型臺式磁控濺射系統

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