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NEE-4000 (M)電子束蒸發系統

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那諾-馬斯特中國有限公司

美國

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面議

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754

產品介紹

電子束蒸發技術

NEE-4000(M)電子束蒸發系統概述:NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔體的配置,其中樣品臺位于主腔體內,二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預真空鎖,使得電子束源腔體保持真空的情況下,實現基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基片時,他可以通過第三方的預真空鎖來實現,這可以設置于立方體的左側。通過PC計算機控制,系統可以提供多電子束源的共蒸發能力,以及對組分或組分梯度進行編程的能力。

NEE-4000(M)電子束蒸發系統特點:

  • 順序蒸發或共蒸發

  • 雙電子束源

  • 多凹槽電子槍

  • 可編程電子束掃描

  • 10KW開關電源

  • 渦輪分子泵,極限真空5x10-7Torr

  • 手動上下載片,帶預真空鎖

  • 材料和襯墊更換非常方便

  • 晶振式膜厚監測儀

  • 通過LabView軟件實現PC計算機控制

  • 菜單驅動,四級訪問密碼保護

  • 完全的安全聯鎖

NEE-4000(M)電子束蒸發系統Features:

  • Sequential or Co-Evaporation

  • Dual E-Beam Source

  • Multi-Pocket E-Gun

  • Programmable Beam Scan

  • 10 KW Switching Power Supply

  • Turbomolecular Pump, 10-7Torr

  • Manual Load/Unload w/Load Lock

  • Easy Material and Liner Change

  • Crystal Thickness Monitor

  • PC Controlled with LabVIEW

  • Recipe Driven, Password Protected

  • Fully Safety Interlocked

產品咨詢

NEE-4000 (M)電子束蒸發系統

那諾-馬斯特中國有限公司

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